凸版光掩模有限公司批准在中国建设65纳米至14纳米生产线项目【kaiyun·开云，kaiyun·开云(官方)app下载安装ios/安卓通用版/手机版】

全球业界选用光掩模合作伙伴ToppanPhotomasks，Inc.（TPI）今天宣告批准后对近期改建的中国上海厂的下一阶段投资计划；该厂由TPI独资子公司ToppanPhotomasksCompanyLimited，Shanghai（TPCS）运营。TPI将回应工厂再行投资8000万美元以展现出其对中国较慢茁壮的半导体产业及客户之长年允诺。TPI先前已投资2000万美元改建上海二厂（TPCSShanghaiII）；该厂现量产并且为中国唯一获取全方位技术及产品的商业光掩模厂。　　TPI执行长MikeHadsell回应：相比于其他供货商，上海厂除了获取中国客户延长两天周期的优势外，并不利于加快客户占领市场的时效。

今天的宣告除了以上优势，并不断扩大光掩模生产能力至28纳米。上海厂的先进设备技术也将更进一步伸延至14纳米，以符合中国半导体市场较慢演变的市场需求。

此外，上海厂区也有充足的改建空间以反对客户在未来十年甚至更加将来的生产能力市场需求。　　现拓展的上海二厂座落在目前公司营运地（上海漕河泾开发区），除了享有先进设备的一级无尘室及设备外，并不利于下一阶段的拓展计划。此阶段的生产能力及技术将探讨于65至14纳米的逻辑与先进设备内存（DRAM及NAND）。

待今日宣告的计划已完成后，仍将有40%的无尘室空间以作为日后拓展所须要。

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